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デバイスウェーハ向けエッジポリッシャーは、エッジ部の異物などを除去・研磨することにより、最終的なチップ歩留りを改善する装置です。ベアシリコンウェーハ用エッジポリッシャーのパイオニアが、その装置実績を活かし、 300mm 、 200mm の他、 150mm 用までラインナップしています。

ベアウェーハ向けは、1988 年から現在まで約 550 台を出荷し、世界中のベアシリコン生産工場で稼動するグローバルスタンダード装置です。 300mm から小径まであらゆるウェーハに対応します。

  高精度加工を支える、関連消耗品も揃えています。
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EPD-300-X / EPD-200-X
300mm又は200mmデバイスウェーハのエッジ研磨により、チップ歩留りを改善する装置です。エッチングや洗浄等のエッジ処理に比べ、飛躍的に歩留りを向上させます。洗浄装置を搭載し、ドライイン・ドライアウトを実現しています。
EP-300-X /EP-200-X
300mm シリコンベアウェーハ向け高スループット装置です。三面同時研磨を行うウェーハ外周エッジの他、ノッチ内部またはオリフラ直線部も鏡面化し、エッジ部全体のダメージ領域を除去します。
 
 
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